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Schlüsselwörter [ plasma surface treatment machine ] Spiel 37 produits.
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Wasserdampf Plasma Oberflächenbehandlung Maschine 500W Quarz Polieranlage
| Stromversorgung: | 220V/50Hz |
|---|---|
| Plasmabehandlungstemperatur: | Raumtemperatur |
| Plasmakammermaterial: | Quarz |
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Industrie Plasma Oberflächenbehandlung Maschine 220V / 50Hz mit HF-Generator Plasma Quelle
| Plasmabehandlungstemperatur: | Raumtemperatur |
|---|---|
| Stromverbrauch: | 500 kW |
| Einheitlichkeit der Plasmabehandlung: | ± 5% |
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PLC-Steuerung Quarz Plasma Oberflächenbehandlung Maschine 220V Plasma Polieranlage
| Modell: | PP001 |
|---|---|
| Zeit der Plasmabehandlung: | 3-5 Minuten |
| Stromversorgung: | 220V/50Hz |
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Hochpräzisions-Plasma-Finixiersystem mit Quarzkammer-Oberflächenrefining-Maschine
| Stromverbrauch: | 500 W |
|---|---|
| Plasmabehandlungsdruck: | 0.1-1.0 Pa |
| Einheitlichkeit der Plasmabehandlung: | ± 5% |
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Radiofrequenzgenerator Plasma Poliermaschine 220 V Metalloberflächenpoliermaschine ISO9001
| Plasmabehandlungsdruck: | 0.1-1.0 Pa |
|---|---|
| Größe der Plasmakammer: | 300 mm x 300 mm x 300 mm |
| Plasmaquelle: | Rf-Generator |
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Raumtemperatur Plasmapolisher 500W Plasmabehandlungsmaschine Niedriger Energieverbrauch
| Plasmakammermaterial: | Quarz |
|---|---|
| Plasmagas: | Argon |
| Plasmabehandlungstemperatur: | Raumtemperatur |
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Wasserdampf-Large Plasma-Poliermaschine 220V-Metalloberflächenpoliermaschine
| Plasmagas: | Wasserdampf |
|---|---|
| Stromversorgung: | 220V/50Hz |
| Stromverbrauch: | 500 kW |
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Quarz-PLC-Steuerung Plasmabehandlung Maschine 220V / 50Hz Plasma Glättungsanlage
| Steuerungssystem: | Touch Screen plc-Steuerung |
|---|---|
| Stromversorgung: | 220V/50Hz |
| Plasmakammermaterial: | Quarz |
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Raumtemperatur Plasmabehandlung Maschine 220V / 50Hz Quarz Gasphasen Poliervorrichtung
| Plasmabehandlungstemperatur: | Raumtemperatur |
|---|---|
| Plasmakammermaterial: | Quarz |
| Stromversorgung: | 220V/50Hz |
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500 kW Plasma Poliermaschine Raumtemperatur Oberflächenrefining Maschine
| GasStrömungsgeschwindigkeit: | 0-100 Sccm |
|---|---|
| Plasmabehandlungsdruck: | 0.1-1.0 Pa |
| Einheitlichkeit der Plasmabehandlung: | ± 5% |